產品介紹

  • M12 熱壓設備 (Hot bar機)
  • 加熱方式
    脈衝
  • 機台壓頭數量
    12組
  • 機台尺寸(mm)
    長 1300 x 寬 1500 x 高 2000
  • UPH
    1800
  • M6P 熱壓設備 (Hot bar機)
  • 加熱方式
    脈衝
  • 機台壓頭數量
    6組
  • 機台尺寸(mm)
    長 700 x 寬 1000 x 高 1850
  • UPH
    900
  • M4 熱壓設備 (Hot bar機)
  • 加熱方式
    脈衝
  • 機台壓頭數量
    4組
  • 機台尺寸(mm)
    長 1400 x 寬 1200 x 高 1850
  • UPH
    600
  • M2 熱壓設備 (Hot bar機)
  • 加熱方式
    脈衝
  • 機台壓頭數量
    2組
  • 機台尺寸(mm)
    長 850 x 寬 1050 x 高 1900
  • UPH
    300
  • M4UM移載設備 (下料機)
  • UPH
    600
  • 特色
    流線不中斷
  • 載盤尺寸(mm)
    長 102 x 寬 60 x 高 12
  • 堆疊方式
    伺服帶動彈匣
  • 機台工站數量
    2
  • 機台尺寸(mm)
    長 900 x 寬 1200 x 高 1850
  • B4T-S 多軌道輸送熱壓設備 (Hot bar機)
  • 加熱方式
    脈衝
  • 機台壓頭數量
    4組
  • 機台尺寸(mm)
    長 1200+600 x 寬 1200 x 高 2000
  • UPH
    300
  • M6R 熱壓設備 (Hot bar機) + AOI 系統
  • 加熱方式
    脈衝
  • 機台壓頭數量
    6組
  • 機台尺寸(mm)
    長 1200x 寬 1200 x 高 2000
  • UPH
    900
  • P2 半自動熱壓設備 (Hot bar機)
  • 加熱方式
    脈衝
  • 機台壓頭數量
    1組
  • 機台尺寸(mm)
    長 840 x 寬 800 x 高 1250
  • UPH
    200
  • W1 半自動熱壓設備 (Hot bar機)
  • 加熱方式
    脈衝
  • 機台壓頭數量
    1組
  • 機台尺寸(mm)
    長 640 x 寬 540 x 高 710
  • UPH
    150
  • C1 脈衝加熱模組 (可搭配各廠設備應用)
  • 加熱方式
    脈衝
  • 模組型式選擇
    上下 & 左右
  • 機台壓頭數量
    2 pcs.
  • 壓頭尺寸(mm)
    MAX:30 x 3 或 MAX:80 x 3
  • 恆溫溫度精度
    均溫可控在±3℃內
    可支援 MES 通信協議
  • 模組尺寸(mm)
    250 x 340 x 250
  • P1-L ACF 貼附設備
  • 加熱方式
    恆溫
  • 機台壓頭數量
    1組
  • 機台尺寸(mm)
    長 1000 x 寬 1100 x 高 1700
  • PA-1000 FOB / FOF 貼片設備
  • 加熱方式
    恆溫
  • 機台壓頭數量
    3組
  • 機台尺寸(mm)
    長 1500 x 寬 2000 x 高 2000
  • UPH
    650

Standard Model
SWC3008
General Specification
(表格內容可透過左右拖移 )
規格內容
Tool NameASTRON (Single Wafer Cleaner)
ModelSWC3008SWC3012SWC3016
No. of Chamber81216
Max. Throughput (wf/hr)480User Spec.User Spec.
Dimension (mm)Width2,2302,3002,300
Length2,1652,7602,760
Height3,1502,4503,150
UsageCleaning & Etching
Wafer Size300mm (200mm Option)
No. of Loadport3 or 4
FAOHT, AGV
ChemicalAcid, Alkali, IPA, Hot DIW, DIW
Robots2 for EFEM & Main (MTR)
Chemical InjectionFront & Backside together
DryIPA liquid + N2
OptionsMegasonic, Nanospray
Uniformity5%